【IT168 资讯】英特尔宣布斥资30 亿美元兴建的首间高产量45纳米晶圆厂“ Fab 32 ”经正式投产，制造用于个人电脑、行动电脑及其他电脑运算工具的新一代微处理器，首批产品预计于今年11 月12日面世。

　　英特尔表示“Fab 32 ”厂房位于美国亚利桑那州钱得市，投资30亿美元兴建，将采用英特尔新一代45nm制程技术，并采用全新物料铪的 high-k 物质制作闸极介电层，藉此大大减低处理器中常见的漏电情况。而且小小一点已能容纳超过200万颗45nm电晶体，有助英特尔提供速度更快、更节能的处理器，其中最值得注意的是，新一代 45纳米产品不含铅及卤素，为环境保护出一分力。

　　英特尔总裁兼首席执行官Paul Otellini 表示，英特尔在美国亚利桑那州开设的“Fab 32”厂房，拥有全球非常先进、最环保的生产技术，凭着 45纳米制程的奇妙力量，加上英特尔的崭新电晶体设计，提供高效能的节能电晶体，由效能最强的伺服器以至形形色色的流动装置，均能满足不同市场领域的客户需求。

　　“Fab 32”是英特尔的第六间300mm晶圆生产厂房，以及第二间生产 45纳米晶片的厂房。英特尔于今年1月首度生产45纳米制程处理器，地点是位于美国俄勒冈州名为D1D的产品发展设施，但只是用作研发及试产之用。现在，英特尔在其新开设的“Fab 32”厂房，开始进行高产量的制造程序，另有两间生产45纳米及300mm处理器的新厂房亦定于明年启用，分别位于以色列的“Fab 28”以及新墨西哥的“Fab 11x”，这些厂房均采用000mm晶圆既能降低每块晶片的生产成本，亦能减少资源的整体使用率。